菱形状a氧化铝研磨微粉 我公司生产FWA系列抛光粉是做金相抛光的**材料,同时还适合不锈钢镜面抛光,钛金属抛光,铸铁抛光,铝材镜面抛光,大理石石材镜面抛光,油漆抛光,树脂抛光,PCB电路板抛光,玻璃抛光,光学玻璃,眼镜镜片抛光,树脂镜片抛光,蓝宝石抛光,LED抛光,锗抛光,锌抛光,抛光快,光亮度好,无划伤。 氧化铝抛光粉用于蓝宝石抛光比氧化硅的抛光速率快3倍左右,每小时能抛7-10um。 概要与特点:无锡中晶材料科技有限公司为迎合市场需求,采用独特的生产工艺,利用国内外先进的生产设备,通过严谨的生产流程制作而成的纳米氧化铝抛光粉为高纯度白色粉末,是玻璃、水钻、水晶、金属、各种石材系列精抛纳米材料。该产品具有以下优越性能:1、晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀;2、磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好;3、研磨效率高,抛光效果好,研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料,表面光洁度优于白刚玉的抛光效果,切削力强、出光快、能抛出均匀而明亮的兴泽。规格:项目 指标型 号 TWA 0.2 TWA 0.3 TWA 0.5外 观 白色粉末 白色粉末 白色粉末晶 型 a相 α相 α相含 量﹪≥ 99.9% 99.9% 99.9%中位粒径 D50 0.2um 0.3um 0.5um用途1、人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光(机器抛光、滚动抛光)、手动抛光(研磨抛光)等。2、铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。3、金属表面抛光。4、抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石,大理石、花冈岩、水晶、光学玻璃的表面抛光。5、汽车油漆打磨抛光,手机外壳油漆抛光等。用量推荐用量为1~20%,使用者应根据不同体系经过试验决定*佳添加量。包装20公斤/每箱(内衬PE塑料袋)注意1.请不要浸水。2.请不要用湿手触摸。3.请佩戴防尘护罩、安全眼镜、防护手套。4.请不要漏出,漏出时请即时清扫干净。 中晶微米级氧化铝抛光粉(精抛).【产品性能】本公司生产的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化铝产品,采用独特的生产工艺,利用国内外先进的生产设备,通过严谨的生产流程制作而成。该产品具有以下优越性能:●晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀;●磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好;●研磨效率高,抛光效果好,研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料,表面光洁度优于白刚玉的抛光效果,切削力强、出光快 产品粒度分布 微米(µm) 规格型号 平均粒度(D50值) 粒度目数(#) 晶型 含量%> 外观TWA1 1.0±0.2 8000# α相 99.62% 白色粉末TWA2 2.2±0.4 6000# α相 99.62% 白色粉末TWA3 3.1±0.4 4000# α相 99.62% 白色粉末TWA5 4.7±0.5 3000# α相 99.62% 白色粉末TWA9 6.4±0.6 2000# α相 99.62% 白色粉末TWA GF1 7.0±0.6 2200# α相 99.62% 白色粉末TWA12 8.4±o.6 1500# α相 99.62% 白色粉末TWA15 10.5±1.5 800# α相 99.62% 白色粉末【适用范围及建议】 ①人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光(机器抛光、滚动抛光)、手动抛光(研磨抛光)等。②铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。③金属表面抛光。
【产品型号】ZJ-200系列氧化铝抛光液【应用领域】不锈钢、铝合金等金属材料的抛光。【产品特色】颗粒分散性好,有效避免了抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤;颗粒粒径分布适中,**程度提升抛光速度的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光良率;运用抛光液中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量;低VOC配方,使用过程避免粉尘产生,关注环保和人体健康安全。【物化指标】【使用说明】产品久置会有分层、沉淀,均属正常物理现象,使用前请搅拌均匀;使用过程中保持持续搅拌,可保证稳定的研磨效率;根据工艺要求进行一定的稀释,一般建议1:1至1:3。【包装】标准包装:25 kg /桶,250 kg/桶。也可根据客户要求进行包装。
平板状氧化铝微粉 该研磨抛光微粉是以徳国进口工业氧化铝粉为主要原料,采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小,经特殊处理和严颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到**率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量和日本FUJIMI公司相当。2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点1)平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的**区别是:片状,硬度高,粒度均匀。2)特点为:A、形状为平板状,即片状,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间,如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍;B、由于形状为平板状,故对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%至15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到99%以上;C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%;D、与国外同类产品相比,质量达到或超过国外同类产品,品质已达到国际标准,但产品价格只有国外同类产品的50%;E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能,故加工的产品合格品率高,质量稳定,生产成本只有原来的50%-60%。(具体数据可见用户报告)3、片状氧化铝是以工业氧化铝为原料,添加复合矿化剂,经过高温煅烧而成。晶体形貌为具有一定厚度的片状备用于以下方面的研磨抛光磨料,平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:1)电子行业: 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。2)玻璃行业: 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。3)涂附行业: 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。4)金属和陶瓷加工业。三, 平板状(片状)氧化铝研磨微粉(AL2O3)性能指 平均粒度(D50值)(由Coulter Counter测试)规格型号 平均粒度(D50值)(由Coulter Counter测试)粒度 目数 (#)TWA0.8 0.8 10000#TWA1 1.0 8000#TWA2 2.2 6000#TWA3 3.1 4000#TWA5 4.7 3000#TWA9 6.4 2000#TWA GF1 7.0 2200#TWA12 8.4 1500#TWA15 10.5 800#TWA20 14.5 700#TWA25 17.4 700#TWA30 21.5 600#TWA35 25.5 500 #TWA45 36.0 360#TWA50 42.5 320#TWA55 50.0 280# TWA6 63.0 240# 注明(产品粒度以客户使用要求标准为准) 粒度分布表以TWA12为例)标准粒径实测数值(um)规格(um)**粒径(dv-0值)16.9<23累积高度3%点的粒径(dv-3值)13.63<19累积高度3%点的粒径(dv-3值)8.57.8-9累积高度94%点的粒径(dv-94值)4.44≥4化学成分化学成份分析值(%)规格值(%)AL2O3 99.38 99.3SiNa2O2 0.27 0.05Na2O 0.35 0.55Fe2O3 0.03 0.10物理指标:化学名称 外观 比重 莫氏硬度A-AL2O3 白色 3.95-3.98g/cm3 9.0包装外貌:包装材料内衬双层塑料袋,纸箱外包装包装重量20KG/箱
煅烧α氧化铝研磨微粉煅烧氧化铝粉采用一级工业氧化铝、氢氧化铝外加添加剂技术煅烧转相后,再采用先进的粉磨技术及工艺,生产出的活性氧化铝微粉,其特点是活性大,粒度细。特别适用于定型制品和耐火浇注料、可塑料、修补料、喷补料、涂抹料等不定形耐火材料,对改善耐火材料的高温强度、提高材料的抗侵蚀性能具有很强的作用。煅烧氧化铝粉粉具有较高的化学稳定性,纯度高、真比重大、酌减小、绝缘性能好,耐酸耐碱机械强度大,耐磨耐冲击等特点具有熔点高、热稳定性好、硬度大、耐磨性好、机械强度大高、电绝缘性好、耐腐蚀等特点,广泛用于定形、不定形耐火材料、耐火浇注料结合剂、耐磨磨具、高纯耐火纤维、特种陶瓷、电子陶瓷等。煅烧氧化铝粉技术标准:.指标名称Al2O3SiO2Fe2O3Na2O灼减α-Al2O3有效密度单位% % % % % % R H技术要求≥99.5≤0.02≤0.02≤0.3≤0.1≥94.5 3.93
ZJ-200系列锌合金氧化铝镜面抛光液锌合金抛光液具有效率高、效果稳定等特点;专门针对铝合金材质镜面抛光工序(如1000系列工业纯铝、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型号),并根据材料型号的不 同配套有相应的不锈钢抛光液。作业后能够实现很高标准的平行度和**镜面效果。 锌合金氧化铝镜面抛光液的组分:抛光粉、水、酸、无机盐、其他。适合铝合金等材质工件镜面抛光加工用。 一般来说,工件要实现镜面效果,基本上都是要经过粗抛、精抛和抛光这三道工序的。如果工件本身具有一定的精度,则可以省略粗抛工序。 粗抛:去除毛坯的大部分余量,**所达到的效果要保持到大致的几何形状与粗糙度。 精抛:粗抛完成后的下一个工序就是精抛,结果是能够保持*精确的几何形状以及精细的裂纹深度。 抛光:工件通过了粗抛、精抛工艺后,进入抛光工序;也是*终实现光学表面层实现的**一个部分,前提下前两者必须要为**一步抛光做好准备,使得在整个抛光过程当中,尽量去除粗抛与精抛所留下的破环层,实现光学表面*理想镜面效果。 由于这三种工序不同,所用的研磨液也不一样 1.粗抛选择的耗材是:粗抛液,粗磨盘(铸铁盘)。这两种耗材的成分里面,主成分的材质稍微较粗,要求硬度较高,颗粒度较大,这样才有较好的切削力。 2.精抛选择的耗材是:精抛液,精磨盘(锡盘)。这两种耗材相对要求要高一点,需要材质更为精细,颗粒非常小的原材料生产。 3.抛光选择的耗材是:抛光液,抛光盘(铜盘)。这个耗材要求**,对精细度有着非常严格的标准。一般是采用纳米级颗粒度的原材料配置液体。也通常用的是微米级的金属颗粒锻造而成。 选择中研抛光液,保证抛光效果
产品描述阿尔法氧化铝微粉 (white fused alumina) TWA0.5、TWA1.5、TWA2、TWA3.5、TWA5、TWA7、TWA10、TWA14、TWA20、TWA28、TWA40、TWA63阿尔法氧化铝微粉是以优质的铝氧粉为原料,经电熔提炼结晶而成,具有硬度高,韧性稍低,纯度高,自锐性优,磨削力强,发热量小,效率高,耐酸碱腐蚀,耐高温,热稳定性好等特点。它不但是**的磨料磨具材料,还是**研磨,抛光材料等,用它加工制成的磨具,适用磨削高碳钢,高速钢及各种不锈钢。它还广泛用于精密铸造,钢铁耐火,化工耐火,95电池,装饰瓷等特种陶瓷及日常生活用瓷,以及军工,电子等高科技行业。粒度(国标) 基本粒尺寸(um)TWA63 63-50umTWA50 50-40umTWA40 28-40umTWA28 20-28umTWA20 14-20umTWA14 10-14umTWA10 7-10umTWA7 5-7umFTWA5 3.5-5umTWA3.5 2.5-3.5umTWA2.5 1.5-2.5umTWA1.5 0.5-1.5umTWA0.5 0-0.5umAl2O3≥99.00%Fe2O3≤0.07%SiO2≤/Cao≤0.03%MgO≤0.02%K2O≤0.02%Na2O≤0.40%堆积密度1.75-1.95g/cm3颗粒密度≥3.90g/cm3 min莫氏硬度≥9显微硬度21600-22600kg/mm3用途其磨具适用于磨削高碳钢、高速钢和淬火钢等硬度较硬、抗张强度较大的材料的磨削。等。还可作为研磨抛光材料;精密铸造、喷涂材料,化工触媒载体,特种陶瓷、砂轮,炼钢,**耐火材料等。它的特点是切削力较强,化学稳定性好,具有很好的绝缘性
品介绍规格参数【产品型号} ZJ-300 系列氧化铝抛光液【应用领域】不锈钢、铝合金等金属材料的抛光。【产品特色】颗粒分散性好,有效避免了抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤;颗粒粒径分布适中,**程度提升抛光速度的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光良率;运用抛光液中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量;低VOC配方,使用过程避免粉尘产生,关注环保和人体健康安全。【使用说明】产品久置会有分层、沉淀,均属正常物理现象,使用前请搅拌均匀;使用过程中保持持续搅拌,可保证稳定的研磨效率;根据工艺要求进行一定的稀释,一般建议1:1至1:3。【包装】标准包装:25 kg /桶,250 kg/桶。也可根据客户要求进行包装。 铝合金氧化铝镜面抛光液:不 锈钢抛光液具有效率高、效果稳定等特点;专门针对铝合金材质镜面抛光工序(如1000系列工业纯铝、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型号),并根据材料型号的不 同配套有相应的不锈钢抛光液。作业后能够实现很高标准的平行度和**镜面效果。 铝合金镜面抛光液的组分:抛光粉、水、酸、无机盐、其他。适合铝合金等材质工件镜面抛光加工用。 一般来说,工件要实现镜面效果,基本上都是要经过粗抛、精抛和抛光这三道工序的。如果工件本身具有一定的精度,则可以省略粗抛工序。 粗抛:去除毛坯的大部分余量,**所达到的效果要保持到大致的几何形状与粗糙度。 精抛:粗抛完成后的下一个工序就是精抛,结果是能够保持*精确的几何形状以及精细的裂纹深度。 抛光:工件通过了粗抛、精抛工艺后,进入抛光工序;也是*终实现光学表面层实现的**一个部分,前提下前两者必须要为**一步抛光做好准备,使得在整个抛光过程当中,尽量去除粗抛与精抛所留下的破环层,实现光学表面*理想镜面效果。 由于这三种工序不同,所用的研磨液也不一样 1.粗抛选择的耗材是:粗抛液,粗磨盘(铸铁盘)。这两种耗材的成分里面,主成分的材质稍微较粗,要求硬度较高,颗粒度较大,这样才有较好的切削力。 2.精抛选择的耗材是:精抛液,精磨盘(锡盘)。这两种耗材相对要求要高一点,需要材质更为精细,颗粒非常小的原材料生产。 3.抛光选择的耗材是:抛光液,抛光盘(铜盘)。这个耗材要求**,对精细度有着非常严格的标准。一般是采用纳米级颗粒度的原材料配置液体。也通常用的是微米级的金属颗粒锻造而成。 选择中晶,保证抛光效果 一般来说,研磨液都是以客户工件的材质和要达到的效果来配置的。在交货前,中晶工程师会依据客户提供的工件试样,除了要达到客户抛光要求,还要实现高良率、**率、低成本原则。交货后,提供详细的使用方法,并有工程师上门指导,保证抛光效果。
片状氧化铝抛光粉采用高纯氧化铝作为原料, 在严格粒度分布控制下, *小粒度能够达到0.3um。晶体呈四边菱形状、 粒度分布范围窄、不易产生划痕、磨削力强。用途:1) 单晶硅片的研磨、抛光。2) 水晶镜片的研磨抛光。3) 手机外壳等铝合金材料及不锈钢材料的抛光。4) 不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光。5) 等离子喷涂6)光学玻璃, 激光晶体, 光学晶体, 光学塑料, 半导体, 金属合金, 陶瓷, 等。氧化铝抛光粉规格:颜色:白色纯度:≥ 96%菱形氧化铝研磨微粉(AL2O3)性能指 平均粒度(D50值)(由Coulter Counter测试) 产品粒度分布 微米(µm)规格型号 平均粒度(D50值)(由Coulter Counter测试)粒度目数(#)TWA-3 3.1 4000#TWA-5 4.7 3000#TWA- 7 7.0 2000#TWA- 10 9.0 4000# 注明(产品粒度以客户使用要求标准为准) 粒度分布表以TWA10为例)标准粒径实测数值(um)规格(um)**粒径(dv-0值)16.9<23累积高度3%点的粒径(dv-3值)16.0 <19累积高度3%点的粒径(dv-3值)8.5 7.8-9累积高度94%点的粒径(dv-94值)4.44 ≥4化学成分化学成份分析值(%)规格值(%)AL2O399.3899.3SiNa2O20.0270.05Na2O0.350.55Fe2O30.030.10物理指标:化学名称外观比重莫氏硬度A-AL2O3白色3.95-3.98g/cm39.0包装外貌:包装材料内衬双层塑料袋,纸箱外包装包装重量20KG/箱